| 【中文题名】 | 液体表面调整剂的研究 |
| 【英文题名】 | A Study of Liquid Surface Conditioner for Phosphating |
| 【学科专业】 | 材料学 |
| 【论文级别】 | 硕士论文 |
| 【投稿时间】 | 2004-9-28 |
| 【中关键词】 | 液体表面调整剂,表面调整,磷化,表面处理,, |
| 【英关键词】 | Liquid conditioner,Surface conditioning,Phosphating,Surface treatment, |
| 【分类导航】 | 工业技术>金属学与金属工艺>金属学与热处理>金属腐蚀与保护、金属表面处理>腐蚀的控制与防护> |
| 【论文摘要】 | 表面调整是磷化处理中的一个工序,在磷化工艺中采用表面调整工序是目前涂装行业获得高质量磷化膜的重要方法之一。表面调整处理能够为磷化膜的生长提供良好的晶核,提高膜的致密性和降低膜重。
目前表面调整工序中使用的表面调整剂多是固体状态,存在着对涂装有粉尘污染、不适于流水线自动加料作业等问题。因此,制备液体表面调整剂有很好的市场前景和良好的社会效益。
本文通过对聚磷酸盐、PO_4/Ti比、K/Na比等方面对液体表面调整剂的配方进行了研究和讨论得出:聚磷酸盐主要起稳定剂的作用,对磷化成膜性能影响不大;提高液体表面调整剂中的钛含量有利于使磷化膜更均匀细致,PO_4/Ti比越高,液体表面调整剂的稳定性越好,但磷化膜质量在高PO_4/Ti比时会出现劣化现象;引入K~+离子可以明显改善液体表面调整剂的性能,适当K/Na比的液体表面调整剂不仅使磷化膜更细致,还能使低锌磷化在酸洗条件下形成良好的磷化膜。本文还对液体表面调整剂制备工艺中含水量、pH值、温度的影响和液体表面调整剂的应用工艺中的使用浓度、温度、处理时间等进行了研究和讨论,最终得到了CS100液体表面调整剂的配方、制备工艺和应用工艺。
配... |
| 【论文题纲】 |
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第一章 绪论 |
13-17 |
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1.1 对磷化前采用表面调整工序的重要性 |
13-15 |
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1.2 目前工业用表面调整剂存在的主要问题 |
15-16 |
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1.3 本文研究的主要内容 |
16-17 |
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第二章 文献综述 |
17-35 |
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2.1 涂装前处理工序 |
18-19 |
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2.2 磷化及磷化成膜机理 |
19-20 |
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2.3 表面调整的作用 |
20-22 |
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2.4 表面调整的种类 |
22-25 |
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2.5 传统钛系表面调整剂的缺点 |
25-27 |
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2.6 钛系表面调整剂的作用机理 |
27-29 |
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2.7 表面调整剂体系常用的分散稳定剂 |
29-32 |
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2.8 表面调整剂的发展趋势 |
32-33 |
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2.9 小结 |
33-35 |
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第三章 实验方案与方法 |
35-39 |
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3.1 实验药品 |
35 |
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3.2 磷化实验试片 |
35 |
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3.3 液体表面调整剂的制备 |
35-36 |
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3.4 磷化工艺 |
36-37 |
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3.5 检测方法 |
37-39 |
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第四章 试验结果与分析 |
39-64 |
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4.1 配方及制备工艺研究 |
39-51 |
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4.1.1 配方组分实验 |
40-46 |
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4.1.1.1 分散稳定剂的选择 |
40-42 |
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4.1.1.2 钛含量对液体表面调整剂性能的影响 |
42-43 |
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4.1.1.3 PO_4/Ti比对液体表面调整剂性能的影响 |
43-44 |
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4.1.1.4 K/Na比对液体表面调整剂性能的影响 |
44-46 |
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4.1.2 制备工艺 |
46-50 |
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4.1.2.1 水含量对液体表面调整剂性能的影响 |
46-47 |
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4.1.2.2 pH值对表面调整剂性能的影响 |
47-48 |
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4.1.2.3 制备温度对液体表面调整剂性能的影响 |
48-50 |
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4.1.3 小结 |
50-51 |
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4.2 应用工艺研究 |
51-61 |
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4.2.1 钛浓度对表面调整剂性能的影响 |
51-53 |
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4.2.2 使用温度和处理时间对表面调整剂性能的影响 |
53 |
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4.2.3 工作液pH值对表面调整剂性能的影响 |
53-54 |
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4.2.4 水中钙、镁离子含量对表面调整剂性能的影响 |
54-55 |
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4.2.5 对酸洗的适应性 |
55-56 |
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4.2.6 CS100液体表面调整剂对磷化体系的适应性 |
56-58 |
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4.2.7 CS100液体表面调整剂的处理能力 |
58-60 |
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4.2.8 存放时间对CS100稳定性的影响 |
60-61 |
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4.2.9 小结 |
61 |
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4.3 对比性能测试 |
61-64 |
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第五章 结论 |
64-66 |
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第六章 展望 |
66-67 |
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参考文献 |
67-71 |
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致谢 |
71 |
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| 【DOI】 | LunWen.ID:2.2008.70475 |