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摘要 |
3-5 |
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Abstract |
5-8 |
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目录 |
8-10 |
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第一章 导论 |
10-24 |
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§1.1 纳米材料 |
10-11 |
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§1.2 纳米复合材料 |
11-12 |
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§1.3 纳米阵列结构复合材料 |
12-13 |
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§1.4 硅基纳米复合材料 |
13-15 |
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§1.4.1 硅基纳米复合材料的研究现状 |
13 |
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§1.4.2 利用模板法合成硅基纳米阵列结构复合材料 |
13-15 |
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§1.5 金属/硅纳米复合体系 |
15-17 |
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§1.5.1 金属/多孔硅纳米复合体系 |
15-16 |
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§1.5.2 金属/多孔硅纳米复合体系退火过程研究 |
16 |
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§1.5.3 多孔硅基纳米粒子阵列 |
16-17 |
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§1.6 金属/硅纳米复合体系电学特性研究 |
17-20 |
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§1.6.1 金属/半导体接触概述 |
17-18 |
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§1.6.2 金属/半导体接触的势垒电流输运机制 |
18-19 |
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§1.6.3 金属/半导体肖特基势垒的测试 |
19-20 |
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§1.7 纳米镍的研究现状 |
20-21 |
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§1.8 开题思想 |
21-23 |
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§1.9 本论文的研究内容 |
23-24 |
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第二章 镍/硅纳米孔柱阵列复合体系的制备与表征 |
24-49 |
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引言 |
24 |
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§2.1 Si-NPA及Ni/Si-NPA的表征方法 |
24-25 |
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§2.2 Si-NPA的制备及微观形貌和结构 |
25-28 |
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§2.2.1 Si-NPA的制备 |
25 |
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§2.2.2 Si-NPA的微观形貌和结构 |
25-27 |
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§2.2.3 Si-NPA在碱性溶液中处理后的表面形貌和结构 |
27-28 |
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§2.3 新鲜Si-NPA在碱性NiSO_4溶液中的浸渍沉积 |
28-29 |
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§2.4 新鲜Si-NPA在碱性NiSO_4-NH_4F溶液中的浸渍沉积 |
29-31 |
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§2.5 Si-NPA在碱性NiSO_4-NH_4F溶液中的沉积及所得样品的形貌表证 |
31-42 |
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§2.5.1 Ni/Si-NPA的制备 |
31 |
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§2.5.2 溶液中Ni~(2+)浓度对Ni/Si-NPA表面形貌和结构的影响 |
31-33 |
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§2.5.3 溶液的pH值对Ni/Si-NPA的表面形貌和结构的影响 |
33-36 |
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§2.5.4 衬底的表面氧化状况对Ni/Si-NPA表面形貌和结构的影响 |
36-39 |
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§2.5.5 沉积时间对Ni/Si-NPA表面形貌和结构的影响 |
39-42 |
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§2.5.6 本节小结 |
42 |
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§2.6 Ni/Si-NPA纳米复合体系的浸渍沉积机理 |
42-44 |
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§2.6.1 镍在硅衬底上的沉积机理 |
42-43 |
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§2.6.2 不同形貌的Ni/Si-NPA的形成机理 |
43-44 |
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§2.7 退火温度对Ni/Si-NPA的形貌和结构的影响 |
44-48 |
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§2.7.1 Ni/Si-NPA退火前后的表面形貌和结构 |
44-46 |
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§2.7.2 表面成分分析 |
46-48 |
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§2.7.3 本节小结 |
48 |
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§2.8 本章总结 |
48-49 |
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第三章 镍/硅纳米孔柱阵列电学特性研究 |
49-61 |
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§3.1 金属/多孔硅电学特性研究概述 |
49-50 |
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§3.2 Ni/Si-NPA/Si复合结构的电学测试 |
50-58 |
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§3.2.1 Ni/Si-NPA/Si复合结构常温下的I-V测试 |
50-54 |
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§3.2.2 Ni/Si-NPA/Si复合结构常温下的C-V测试 |
54-55 |
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§3.2.3 工作温度及样品的放置时间对Ni/Si-NPA电学特性的影响 |
55-57 |
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§3.2.4 沉积时间对Ni/Si-NPA电学特性的影响 |
57-58 |
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§3.3 退火后NiO/Si-NPA样品的电学测试 |
58-60 |
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§3.4 本章小结 |
60-61 |
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第四章 结论 |
61-63 |
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参考文献 |
63-76 |
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硕士期间发表的论文 |
76 |
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硕士期间参加的项目 |
76-77 |
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致谢 |
77 |
