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中文摘要 |
3-5 |
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英文摘要 |
5-7 |
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目 录 |
7-11 |
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绪 论 |
11-13 |
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第1章 X射线激光及等离子体电子密度诊断的进展 |
13-24 |
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1.1 X射线激光的发展 |
13-18 |
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1.1.1 电子碰撞激发机制 |
13-16 |
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1.1.2 三体复合机制 |
16-17 |
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1.1.3 其它机制 |
17-18 |
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1.2 X射线激光应用进展 |
18-19 |
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1.3 激光等离子体电子密度诊断研究 |
19-24 |
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1.3.1 光谱学诊断方法 |
19-21 |
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1.3.1.1 特征线谱相对强度比方法 |
20 |
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1.3.1.2 斯塔克效应 |
20-21 |
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1.3.2 激光探针诊断方法 |
21-24 |
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1.3.2.1 激光探针干涉法 |
21-22 |
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1.3.2.2 激光探针偏转法 |
22-23 |
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1.3.2.3 激光探针阴影法 |
23-24 |
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第2章 电子碰撞激发X射线激光基本原理 |
24-38 |
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2.1 引言 |
24 |
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2.2 类镍离子的电子碰撞激发 |
24-27 |
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2.2.1 电子碰撞激发基本原理 |
24-26 |
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2.2.2 类镍离子的电子碰撞激发 |
26-27 |
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2.3 X射线激光在等离子体中的传播 |
27-29 |
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2.3.1 光线方程 |
27 |
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2.3.2 数值模拟方法 |
27-29 |
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2.3.2.1 爆炸薄膜靶 |
28-29 |
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2.3.2.2 平面厚靶 |
29 |
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2.4 X射线激光实验的一些问题 |
29-31 |
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2.4.1 预主脉冲泵浦 |
30 |
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2.4.2 线聚焦系统 |
30-31 |
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2.4.3 双靶对接系统 |
31 |
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2.5 探测系统 |
31-34 |
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2.5.1 平焦场光栅谱仪 |
31-32 |
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2.5.2 晶体谱仪 |
32-33 |
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2.5.3 双狭缝相机 |
33-34 |
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2.6 “神光Ⅱ”上进行X射线激光的实验方案 |
34-37 |
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2.6.1 X射线激光实验方案 |
34-35 |
|
2.6.2 X射线激光增益系数测量 |
35-36 |
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2.6.3 X射线激光的偏折角和发散角 |
36 |
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2.6.4 估算出光总能量 |
36-37 |
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2.6.5 相干性和脉冲宽度 |
37 |
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2.7 小结 |
37-38 |
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第3章 均匀线聚焦系统 |
38-51 |
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3.1 线聚焦技术进展 |
38-41 |
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3.1.1 单柱面透镜与非球面透镜系统 |
38-39 |
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3.1.2 相对旋转负柱面透镜系统 |
39 |
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3.1.3 离轴球面反射镜系统 |
39-40 |
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3.1.4 柱面透镜列阵与非球面透镜系统 |
40 |
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3.1.5 单柱面透镜与列阵光劈系统 |
40-41 |
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3.2 柱面透镜列阵线聚焦系统原理 |
41-43 |
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3.2.1 基本原理 |
41-42 |
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3.2.2 不等宽单元列阵 |
42-43 |
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3.2.3 多光束干涉与硬边衍射影响 |
43 |
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3.3 “神光Ⅱ”特殊光束强度分布下的均匀线聚焦方案 |
43-48 |
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3.3.1 “神光Ⅱ”光束强度分布及其对线聚焦的影响 |
44-46 |
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3.3.2 柱面透镜阵列的改进设计 |
46-47 |
|
3.3.3 特殊的实验方案 |
47-48 |
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3.4 可能改进的柱面透镜列阵系统 |
48-50 |
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3.4.1 混合单元柱面透镜列阵 |
48-49 |
|
3.4.2 偏心单元柱面透镜列阵 |
49 |
|
3.4.3 准行波泵浦 |
49-50 |
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3.5 小结 |
50-51 |
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第4章 X射线激光作为探针探测激光等离子体电子密度 |
51-80 |
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4.1 引言 |
51 |
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4.2 X射线激光探针方法基本原理 |
51-54 |
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4.2.1 激光探针方法测量等离子体电子密度信息 |
52 |
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4.2.2 X射线激光用作探针光源 |
52-54 |
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4.3 X射线激光应用于莫尔偏折法测量电子密度 |
54-70 |
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4.3.1 摩尔偏折测量术基本原理 |
54-59 |
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4.3.1.1 光栅自成像现象 |
55-56 |
|
4.3.1.2 摩尔条纹的产生 |
56-58 |
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4.3.1.3 摩尔条纹测量光束偏折角 |
58 |
|
4.3.1.4 光束波面对摩尔条纹的影响 |
58-59 |
|
4.3.2 摩尔偏折仪设计 |
59-62 |
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4.3.2.1 光栅的选择 |
59-60 |
|
4.3.2.2 双光栅匹配参数设计 |
60-61 |
|
4.3.2.3 偏折仪机械设计 |
61 |
|
4.3.2.4 偏折仪调节方法 |
61-62 |
|
4.3.3 莫尔偏折仪测量等离子体电子密度实验基本数据处理方法 |
62-66 |
|
4.3.3.1 打厚靶产生的近似一维膨胀的等离子体 |
63-65 |
|
4.3.3.2 打爆炸膜靶产生的近似径向对称膨胀的等离子体 |
65-66 |
|
4.3.4 摩尔偏折仪测量等离子体电子密度实验方案 |
66-70 |
|
4.3.4.1 实验设计的若干原则 |
67 |
|
4.3.4.2 实验的原理排布 |
67-68 |
|
4.3.4.3 “神光Ⅱ”X射线激光靶室中的实验光路排布 |
68-69 |
|
4.3.4.4 实验所需的元件说明 |
69-70 |
|
4.4 X射线激光应用于M-Z干涉法测量电子密度研究 |
70-80 |
|
4.4.1 M-Z干涉仪测量等离子体电子密度基本原理 |
70-71 |
|
4.4.2 M-Z干涉仪测量电子密度实验的基本数据处理方法 |
71-74 |
|
4.4.2.1 打厚靶产生的近似一维膨胀的等离子体 |
71-73 |
|
4.4.2.2 打爆炸膜靶产生的近似径向对称膨胀的等离子体 |
73-74 |
|
4.4.3 M-Z干涉仪测量等离子体电子密度实验方案 |
74-75 |
|
4.4.3.2 M-Z干涉仪实验的排布方案 |
74-75 |
|
4.5 X射线激光探针测量电子密度的其它途径 |
75-78 |
|
4.5.1 阴影、偏折方法 |
75-76 |
|
4.5.1.1 直接记录系统(阴影法) |
75-76 |
|
4.5.1.2 网格系统 |
76 |
|
4.5.2 干涉方法 |
76-78 |
|
4.5.2.1 M-Z干涉仪及其改进方案 |
77 |
|
4.5.2.2 其他干涉方案 |
77-78 |
|
4.6 小结 |
78-80 |
|
第5章 X射线激光及其应用演示实验与结果分析 |
80-93 |
|
5.1 实验综述 |
80 |
|
5.2 X射线激光出光实验 |
80-82 |
|
5.3 X射线激光应用演示 |
82-86 |
|
5.3.1 探针光源的强度 |
83 |
|
5.3.2 静态金属网成像 |
83-84 |
|
5.3.3 等离子体自发辐射成像 |
84-85 |
|
5.3.4 静态摩尔条纹 |
85-86 |
|
5.4 实验结果分析 |
86-91 |
|
5.4.1 线聚焦问题 |
87 |
|
5.4.2 靶的长短 |
87 |
|
5.4.3 滤片的使用 |
87-89 |
|
5.4.4 对接条件 |
89-91 |
|
5.5 今后实验的改进建议 |
91-93 |
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第6章 总结 |
93-95 |
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参考文献 |
95-99 |
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致 谢 |
99-100 |
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攻读硕士期间完成和发表的文章 |
100-101 |
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简 历 |
101 |