| 【中文题名】 | 玻璃盘基硬盘用CoCrPt系记录介质制备与性能研究 |
| 【英文题名】 | Preparation and Study on the Properties of CoCrPt-based Alloy Recording Media for Hard-disk Using Glass Substrate |
| 【学科专业】 | 微电子学与固体电子学 |
| 【论文级别】 | 硕士论文 |
| 【投稿时间】 | 2005-3-30 |
| 【中关键词】 | 玻璃盘基,磁记录介质薄膜,微结构,磁性能,CoCrPt,CoCrPtNb |
| 【英关键词】 | glass substrate,magnetic recording media thin-film,microstructure,magnetic properties,CoCrPt,CoCrPtNb, |
| 【分类导航】 | 工业技术>自动化技术、计算机技术>计算技术、计算机技术>电子数字计算机（不连续作用电子计算机）>存贮器> |
| 【论文摘要】 | 为了满足磁记录技术发展需要,薄膜磁记录介质经历了三个不同的发展阶段:第一阶段为了配合感应磁头记录技术。使用真空溅射方法在Cr底层上沉积高矫顽力、高饱和磁化强度的磁记录介质。第二阶段为了满足磁阻磁头对读出信号的高敏感性,在磁性层中掺杂Cr减小磁性晶粒间的交换耦合以有效的减小噪声。巨磁阻磁头技术在磁记录中的应用,要求记录介质不仅具有高矫顽力和低噪声,而且要求介质内的晶粒平均尺寸很小并且尺寸分布均匀和有很小的表面粗糙度。由于玻璃盘基有很小的表面粗糙度,故能使溅射其上的介质表面粗糙度很小。并且玻璃盘基在很薄的情况下依然能保持较好的刚度和硬度,更符合硬盘技术的发展趋势。同时具有HCP结构的CoCrPt系记录介质因其良好的磁性能和化学性能在这三个阶段都得到了广泛关注和研究。
本论文中我们着重研究了玻璃盘基的两类极具发展潜力的高密度记录介质用薄膜材料。第一类是CoCrPt合金,该介质虽然在室温溅射时矫顽力只有2000 Oe,但经过高温退火,其矫顽力可达到3600 Oe并且晶粒间交换耦合和剩磁膜积很小。第二类是CoCrPtNb合金,通过选择适宜的多层结构,该介质即使在室温下溅射其矫顽力也能高达3000 Oe左右,而且其晶... |
| 【论文题纲】 |
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摘 要 |
3-5 |
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Abstract |
5-9 |
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1 引 言 |
9-12 |
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2 磁记录技术研究新进展 |
12-26 |
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2.1 磁记录原理 |
12-22 |
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2.2 薄膜介质噪声 |
22-23 |
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2.3 磁性层中掺杂元素的作用 |
23-24 |
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2.4 高密度磁记录对介质材科的要求 |
24-26 |
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3 磁记录介质薄膜的制备和分析测试 |
26-41 |
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3.1 玻璃基硬盘用磁记录介质制备技术 |
26-29 |
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3.2 薄膜磁性能表征及测试技术 |
29-37 |
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3.3 薄膜微结构及分析技术 |
37-41 |
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4 CoCrPt/Cr薄膜的结构和性能研究 |
41-53 |
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4.1 引言 |
41 |
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4.2 磁性层成分变化对记录介质性能的影响 |
41-42 |
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4.3 溅射气压对记录介质性能的影响 |
42-43 |
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4.4 盘基温度对记录介质性能的影响 |
43-44 |
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4.5 底层对记录介质性能的影响 |
44-48 |
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4.6 退火对CoCrPt介质性能的影响 |
48-52 |
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4.7 小结 |
52-53 |
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5 CoCrPtNb/Cr(CrTi)/C薄膜的结构和性能研究 |
53-63 |
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5.1 引言 |
53 |
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5.2 磁性层成分变化对记录介质性能的影响 |
53-57 |
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5.3 底层对记录介质性能的影响 |
57-58 |
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5.4 碳籽晶层对记录介质性能的影响 |
58-60 |
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5.5 退火对记录介质性能的影响 |
60-62 |
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5.6 小结 |
62-63 |
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6 结论 |
63-65 |
|
致 谢 |
65-66 |
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参考文献 |
66-73 |
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附录 攻读硕士学位期间发表论文目录 |
73-74 |
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| 【DOI】 | LunWen.ID:2.2008.363175 |
